产品概述

GU-AI9000 是可获得纳米级别薄片的离子减薄仪，是透射电镜样品制备流程中的微纳加工仪器，可将大部分金属、陶瓷、涂镀层等材料加工成厚度小于 200nm 的薄片。

产品特点

1. 两个离子源，可独立控制，属于无磁聚集型，离子束斑大，电压、电流稳定，适用于各种不同材料的透射电镜样品前处理。

2. 采用全进口的隔膜泵和半磁悬浮分子泵，为样品仓提供高真空、稳定的实验环境。同时泵体体积更小，整体外观占地更少，更方便使用。（国产没有相应稳定、高真空的真空泵，故此核心部件仍选用进口产品）。

3. 半导体制冷，可达-25℃，在不使用液氮制冷的情况下，已能满足大部分样品的需求。

4. 全中文操作界面，经过多个版本的测试，系统操作方便、简单、稳定。

5. 可通过网线或 wifi 联接网络，实现远程操作及观测运行情况，且便于售后及时监测维护。

6. 外观设计新颖，占地小，便于摆放。

7. 可根据应用需求更新各种硬件和软件设计，包括夹具、观察系统、软件和应用方案等，提供优质的、更有针对性的服务。

离子减薄仪参数

离子源：双离子源，安装角度90°、180°可选

离子束能量：0-10KeV

离子枪与样品加工面夹角：0-180°；3°、6°或9°；0-360°

加工速率：≤300um/h，Si

可容样品尺寸：≤25×12×5.5mm；≤25×25×20mm；Φ3mm

挡板材质：钼或钛；---；---

真空泵：隔膜泵＋涡轮分子泵（无需冷却水）

抽气速率：大气到工作状态不高于3min

制冷：半导体制冷-25℃

工作气体：氩、氦、氧、氙

保护功能：过流、真空双保护

控制系统：基于开源操作系统自主研发，具有自主知识产权